Trichlorosilane ist eine Chemikalie zusammengesetzt, Silikon, Wasserstoff und Chlor enthaltend. Bei hohen Temperaturen zersetzt es sich, um Silikon zu erzeugen, und hat sich deshalb geläutert trichlorosilane ist die Hauptquelle von ultrareinem Silikon in der Halbleiter-Industrie. In Wasser zersetzt es sich schnell, um ein Silikon-Polymer während zu erzeugen, Salzsäure abgebend. Wegen seiner Reaktionsfähigkeit und breiter Verfügbarkeit wird es oft in der Synthese von silikonenthaltenden organischen Zusammensetzungen verwendet.

Produktion

Industriell wird trichlorosilane durch den Schlag des Wasserstoffchlorids durch ein Bett von Silikonpuder an 300°C erzeugt. Dort verbinden sie sich, um trichlorosilane und Wasserstoff gemäß der chemischen Gleichung zu machen

:Si + 3 HCl  HSiCl + H

Ein richtig bestimmter Reaktor kann einen Ertrag von 80-90 % trichlorosilane erreichen. Die Hauptnebenprodukte sind Silikon tetrachloride (chemische Formel SiCl), hexachlorodisilane (SiCl), und dichlorosilane (HSiCl), von dem trichlorosilane durch die Destillation getrennt werden kann.

Der Rückprozess wird in der Produktion von Silikon der höheren Reinheit verwendet.

Anwendung

Trichlorosilane ist die grundlegende in der Produktion von gereinigtem polysilicons verwendete Zutat.

• Halbleiter: Silikon: Substrat-Fertigung: Polykristallene Silikonproduktion

Links

• Polysilikonwerk in Indien.